НАУЧНО-ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКАЯ ЛАБОРАТОРИЯ АВТОМАТИЗИРОВАННЫХ СИСТЕМ НАУЧНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ (НИЛ-35)
Главная Основные результаты Материальная база научных исследований Источники финансирования Контакты

 

СТРАНИЦА НАХОДИТСЯ НА РЕКОНСТРУКЦИИ

Установка плазмохимического травления Каролина ПХТ15

Травление микрорельефа на кварце и стекле
Рабочее давление смеси газов 0,2 Па
Расход кислорода или азота 0,1 Вт
Начальная температура подложек 150°С

ВЧ-мощность на антенне 300 Вт
Установка магнетронного и термического напыления Каролина D12А

Нанесение тонких пленок на кварц и стекло
очистка поверхности изделий перед напылением с целью улучшения адгезии напыляемых слоев с помощью ВЧ источника плазмы высокой плотности или ионного источника постоянного тока;
нагрев изделий до заданной температуры, контроль и поддержание температуры в процессе напыления слоев;
стабилизация заданного расхода технологических газов по трем каналам и контроль расхода газа по каждому каналу;
отпыливание мишени любого из четырех магнетронов на управляемую заслонку;
горизонтальное расположение мишеней на магнетронах и изделий на вращающемся диске;
автоматическое выполнение цикла откачки рабочей камеры от атмосферы до стартового вакуума;
автоматическое окончание цикла очистки изделий по заданному времени;

контроль и автоматическое окончание напыления резистивных и металлических пленок по заданному времени или по заданному сопротивлению свидетеля, а также по кварцевому измерителю толщины и т.д.;
Установка трехмерного наноструктурирования 3D2S

Формирование трехмерных структур с разрешением 200нм
Длина волны лазера – 780нм
Размер рабочей области – до 10х10мм
Рабочий материал – негативный фоторезист (OrmoDev)
Формат файлов для вывода – STL
Точность перемещения подложки – 5 нм

Разрешение 1мкм*0,4мкм*0,4мкм
Литографическая приставка XENOS XeDraw 2 к сканирующему электронному микроскопу

Скорость записи до 10 Мпикселов/с
Максимальный размер массива вывода 50000 x 50000 пикселов

Практическое разрешение 50нм
Прецизионый алмазный скрайбер Точная резка оптических подложек
Настольная установка для магнетронного напыления пленок с турбомолекулярным насосом  

Напыление тонких пленок металлов. Минимальная толщина 50нм

Комплекс изучения наноструктур CPS-DC   Предназначен для исследования процессов формирования наноструктурных покрытий, исследования структуры, жаро- и термостойкости, износостойкости газотермических покрытий из плакированных порошков, методы и средства регистрации и измерения физико-технических характеристик техногенных и микрометеоритных частиц, микро и наночастиц пыли, синтез композитных метаматериалов
Система пробоподготовки для плазменной чистки образцов для РЭМ и ПЭМ от углеводородов   Очистка подложек от органических загрязнений
Зондовая нанолаборатория Ntegra Solaris с возможностью проведения спектральных измерений

- Измерение рельефа в режиме атомно-силового микроскопа
- режим литографии
- измерение ближнего поля с разрешением 100нм
- измерение рамановского спектра(длина волны используемого лазера 532нм)
Размер области измерения – 100х100мкм
Микрообъектив – 100х, сухой

Возможность использовать лазеры с различной длиной волны для измерения ближнего поля
Система малоуглового рассеяния рентгеновского излучения S3-Micro

Рентгеновский дифрактометр Hecus X-Ray Systems GMBH Graz, позволяющий анализировать кристаллические структуры и нанорельефы поверхностей с характерными размерами от единиц ангстрем до 100 нм.
Основные технические характеристики:
Длина волны: 1.54 Ангстрем
Тип излучателя: рентгеновская трубка
Материал катода: медь
Максимальная потребляемая мощность излучателя: 50 Ватт
Максимальное рабочее напряжение: 50 кВ
Тип приемника: 1D газонаполненный детектор Hecus PSD-50M, около 3 см чувствительная область, максимально 50 квантов/сек на канал, разрешение 1024 канала; и 2D Photonic Science HS66 CCD камера, разрешение 2048х2048 пикселей, 28х28 мм чувствительная область.

Расстояние между образцом и приемником: 275 мм
Пространственный модулятор света высокого разрешения PLUTO VIS  
Прецизионная система шлифовки НМ 500.1

Рабочий диапазон Ø ≤ 480 мм
Частота вращения эксцентрика 5 - 50 об/мин
Частота вращения шпинделя (притирочный станок) 20-150 об/мин
Частота вращения шпинделя (полировальный станок) 5-50 об/мин
Особенности:
1х-шпиндельный рачажный станок
Диаметр рабочей емкости Ø 500 мм
Рабочее давление посредством грузов или пневмоцилиндра (опция)

Бесступенчатая регулировка частоты вращения шпинделей
Спектрально-перестраиваемый фемто-пикосекундный волоконный лазер, модель "Иттербиус-1100", укомплектованный волоконным усилителем и сканирующим автокоррелятором FS-PS-Auto    
Спектрально-аналитический комплекс на базе монохроматора-спектрографа MS7504i

Полностью автоматизированное управление от ПК
4-х позиционная турель (в моделях MS7504 и MS7504i) обеспечивает легкую смену дифракционных решеток
Низкий уровень рассеянного света, отсутствие переотражений
Входные и выходные щели с автоматической или ручной регулировкой ширины
Два выходных порта с автоматизированным переключением
Возможность одновременной установки различных детекторов
Спектральные измерения в диапазоне от УФ до ИК
Эмиссионная, флуоресцентная, Рамановская спектроскопия
Измерение поглощения и пропускания
Многоканальная спектроскопия
Воспроизводимость:  0,9 нм/мм
Спектральное разрешение: 0,015 нм
Точность установки длины волны: ± 0,05 нм

Средний шаг сканирования: 0,0015 нм
Станция лазерной записи CLWS-200S

Изготовление элементов ДОЭ
Разрешение записи до 0,6мкм
Диаметр области записи до 200мм.

Точность позиционирования 50нм
Растровый электронный микроскоп SUPRA

Изучение микрорельефа ДОЭ
Пространственное разрешение      1.5 нм при 20 кВ
1.7 нм при 15 кВ
3.5 нм при 1 кВ
Диапазон увеличений  12х — 500 000х в режиме вторичных электронов
Источник электронов   Автоэмиссионный (термоэмиссионного типа)
Стабильность лучше, чем 0.2% в час
Диапазон ускоряющих напряжений         500–20 000 В (20–30 000 В опционально)
Диапазон рабочих токов        4 пА — 10 нА (20 нА опционально)
Встроенные детекторы 1) In-lens SE
2) Детектор вторичных электронов Эвернхарта-Торнли

3) ИК-камера для обзора рабочей камеры
Нанотехнологическая приставка к растровому электронному микроскопу   Вывод шаблона на хроме

 

ATVRV-129CarolineD12ACarolineРЕ15CLWS-200